TFD4 アルカリ性洗浄液

特質：半透明、無臭液体 11.5PH（3％の溶液） 13・5PH（原液）

特長：TFD4は、浸漬洗浄槽または、超音波洗浄機で使用します。

洗浄作用：油、グリース、色素、指紋を溶解します。ガラス基盤に付着した粉塵、パーティクルを取り除く際に、効果的な界面活性剤を含んでいます。電気的に中性にし、新たな付着物を寄せ付けません。

殺菌作用：すばらしい殺菌作用と持っています。フランス規格協会AFNOR のバクテリア部門でも認められています。 

TFD7 オプトエレクトロニクス
低泡性洗浄液

特質：無色　11.5（1％の溶液）
13・5PH（原液） 

特長：TFD7は、ブラシ洗浄機または、高圧洗浄機を用い、優れた洗浄効果を発揮します。

洗浄作用：洗浄面に付いた、油、グリース、たんぱく質、色素、指紋を溶解・除去するために特別に開発されています。パーティクル除去に大変効果的です。

用途：ステンレス、鋼鉄、鉄、プラスチック素材、陶磁器、ゴムなどの幅広い材質に使用できます。

TFD Neutre 中性洗浄液

特質：無色透明　7PH
生分解される
シリコン・ウエハーに最適

特長：TFD　Nは、洗浄後は表面を電気的に中性に保ちます。

パーティクル剥離作用：TFD　Nに含まれる界面活性剤はしつこいパーティクル、埃を取り除くことに優れています。

用途：ステンレス、鋼鉄、鉄、プラスチック素材、陶磁器、ゴムなどの幅広い材質に使用できます。また、高度な洗浄が求められるハイテクガラス、特にLCD（液 晶）、各種薄膜の成膜前･後のあらゆる基盤での使用にも大変優れています。

TFD　W フォトレジスト剥離用

特質：無色透明　7ＰＨ
生分解される
シリコン・ウエハーに使用可能

特長：TFD　Wは液晶画面（LCD）の製造の第一工程で、フォトレジスト塗布前や剥離、除去工程後に使用します。
その他工程でも使用されています。

洗浄作用：液晶画面についた油、グリース、たんぱく質、色素、指紋、を溶解・除去にも優れています。

パーティクル剥離作用：TFD　Wに含まれる界面活性剤の特徴は、洗浄面に付着したしつこいパーティクル、埃を取り除くことに優れています。洗浄後は表面を電気的に中性に保ちま す。

用途：アルミニウム、亜鉛、無水珪酸、特殊ガラス、プラスチック素材、などの幅広い材質に使用できます。また、高度な洗浄が求められるハイテクガラス、特に LCD（液晶）、各種薄膜の成膜前･後のあらゆる基盤での使用にも大変優れています。

STR88

特質：透明　液体
酸性溶剤
酢酸臭
pH原液＝1.8

特長：STR 88 はハイテク分野での理想的な剥離剤です。有機酸、カルシウム、イオンの配合で、優れた湯垢落とし作用を実現しました。接着剤、ワックス、エポキシ樹脂を溶かします。カルシウムとマグネシウムイオンが新しい沈着物を防ぎます｡
温度変化や機械攪拌でガラスの表面を中和します。

用途：製薬産業、化粧品産業
ハイテク工業、ウェーハ製造

ACIDOX

特質：液体
過酸化物臭
酸性溶液
ｐＨ：（原液）1
比重：1,06

特長：ACIDOXはガラス、礫の研磨物質を破壊、洗浄するために作ら
れた起泡性酸性洗浄剤です。フッ化水素酸の代替となり、シリコンを溶かし、分解します。
カルシウム、マグネシウムイオンの気質と溶解で湯垢落とし効
果もあります。
用途：酸に影響されにくい物質にならどれでも利用可能です。
合金など、長時間にわたる接触は避けてください。

• ガラスの製造・加工処理
• ガラスの細工
• ハイテクガラス
• ガラスファイバー・オプティカルガラス

このような産業で利用されています。
基盤、保護機具、研磨機の清掃用に作られています。